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書誌情報サマリ

書名

入門フォトマスク技術　　LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク　　　　　　

著者名 田邉 功／著 　 竹花 洋一／著 　 法元 盛久／著
著者名ヨミ タナベ イサオ　タケハナ ヨウイチ　ホウガ モリヒサ
出版者 工業調査会
出版年月 2006.12

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトル番号 1000610309437
書誌種別 和書
書名 入門フォトマスク技術　　LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク　　　　　　
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者名 田邉 功／著 竹花 洋一／著 法元 盛久／著
書名ヨミ ニュウモン フォトマスク ギジュツ　エルエスアイ エフピーディー ピーダブリュービー メムス ノ タメ ノ フォトマスク　　
著者名ヨミ タナベ イサオ
出版者 工業調査会
出版地 東京
出版年月 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
価格 ￥３８００
言語区分 日本語
ISBN 4-7693-1259-8
分類 549.7
件名 リソグラフィー
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。



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No. 資料番号 所蔵館 請求番号 配架場所 資料種別 帯出区分 状態 貸出
1 0021394945県立図書館549.7/ﾀﾅ/書庫１一般和書貸可資料　在庫　　　  ○

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