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書誌情報サマリ
書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 図解入門
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著者名 |
佐藤 淳一/著
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著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
出版者 |
秀和システム
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出版年月 |
2020.9 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトル番号 |
1006000495931 |
書誌種別 |
和書 |
書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 図解入門 |
副書名 |
微細化の課題 |
著者名 |
佐藤 淳一/著
|
書名ヨミ |
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン ズカイ ニュウモン |
著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
叢書名 |
図解入門
|
版 |
第4版 |
出版者 |
秀和システム
|
出版地 |
東京 |
出版年月 |
2020.9 |
ページ数 |
255p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥1900 |
言語区分 |
日本語 |
ISBN |
4-7980-6245-7 |
ISBN13 |
978-4-7980-6245-7 |
分類 |
549.8
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件名 |
半導体 |
内容紹介 |
ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。 |
著者紹介 |
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。 |
内容細目
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
資料番号 |
所蔵館 |
請求番号 |
配架場所 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
|
1 |
0023562424 | 県立図書館 | 549.8/サト/ | 閲覧室 | 一般和書 | 貸可資料 | 貸出中 |
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