検索結果書誌詳細

蔵書情報

この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。

所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み  シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 微細化の課題  図解入門   

著者名 佐藤 淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9


書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトル番号 1006000495931
書誌種別 和書
書名 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み  シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 微細化の課題  図解入門   
副書名 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 微細化の課題
著者名 佐藤 淳一/著
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン ズカイ ニュウモン 
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
叢書名 図解入門
版年 第4版
出版者 秀和システム
出版地 東京
出版年月 2020.9
ページ数 255p
大きさ 21cm
価格 ¥1900
言語区分 日本語
ISBN 4-7980-6245-7
ISBN13 978-4-7980-6245-7
分類 549.8
件名 半導体
内容紹介 ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。



内容細目

この資料に対する操作

カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。

いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。

この資料に対する操作

電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。


資料情報

各蔵書資料に関する詳細情報です。

No. 資料番号 所蔵館 請求番号 配架場所 資料種別 帯出区分 状態 貸出
1 0023562424県立図書館549.8/サト/閲覧室一般和書貸可資料 在庫    

マイ本棚へ追加ログインするとマイ本棚を利用できます。


関連資料

この資料に関連する資料を 同じ著者 出版年 分類 件名 受賞などの切り口でご紹介します。

2020
549.8 549.8
半導体
前のページへ

本文はここまでです。


ページの終わりです。